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16.01.2007 - Corporate

Roth & Rau AG

 

Roth & Rau AG / SonstigesCorporate News übermittelt durch die DGAP - ein Unternehmen der EquityStoryAG.Für den Inhalt der Mitteilung ist der Emittent verantwortlich.--------------------------------------------------------------------------- - Roth & Rau erhält den 'Chemnitzer Meilenstein' - Vereinbarung zur Zusammenarbeit mit Fraunhofer-Institut in der Dünnschicht-Solarzellentechnologie unterzeichnetHohenstein-Ernstthal, 16. Januar 2007 – Die Roth & Rau AG wurde gestern mitdem 'Chemnitzer Meilenstein' ausgezeichnet. Einmal jährlich würdigt derChemnitzer Marketingclub mit diesem Preis unternehmerische Glanzleistungen.Die besondere Leistung der Roth & Rau AG sieht die Jury insbesondere in derweitsichtigen, frühzeitigen und mutigen Ausrichtung des Unternehmens aufein strategisches Wachstumsfeld. Dr. Dietmar Roth, CEO der Roth & Rau AG:'Wir bedanken uns bei dem Vorstand des Chemnitzer Marketingclubs für diesebesondere Auszeichnung. Obwohl wir ein international agierendes Unternehmensind, ist uns die starke regionale Verwurzelung wichtig. Wir sind stolz,einen Beitrag zur positiven wirtschaftlichen Entwicklung der RegionChemnitz beitragen zu können.'Im Anschluss an die Preisverleihung unterzeichneten Dr. Dietmar Roth undProf. Eicke Weber, Direktor des Fraunhofer-Instituts für SolareEnergiesysteme (ISE), eine gemeinsame Absichtserklärung (Memorandum ofUnderstanding), die die Kommerzialisierung der 'epitaktischesWaferäquivalent' genannten Dünnschicht-Solarzellentechnologie vorsieht. DieÜberführung dieser am ISE entwickelten Technologie zur Produktionsreifesoll innerhalb eines etwa 2,5-jährigen Entwicklungsprojektes vorangetriebenwerden. Die Arbeiten werden voraussichtlich innerhalb der kommenden dreiMonate beginnen.Bei der neuen Technologie werden Wafer als Basis verwendet, die ausminderwertigem, kostengünstigem und vor allem ausreichend vorhandenemSilizium bestehen. Darauf wird eine dünne Schicht hochwertiges Siliziumaufgetragen. Der so aus einem Material-Mix entstandene Wafer kannanschließend wie jeder herkömmliche Wafer weiterverarbeitet werden. Derbesondere Vorteil der Technologie liegt in dem enormenKosteneinsparungspotenzial bei nur geringem Verlust an Wirkungsgrad. 'Wirsehen in dieser Waferäquivalent-Technologie eine vielversprechendeAlternative sowohl zu den konventionellen Wafertechnologien als auch zu denbislang bekannten Dünnschichttechnologien. Besonders interessant ist füruns, dass wir dabei auf die bewährte kristalline Technologie zurückgreifenkönnen und somit ein Einsatz innerhalb unseres Konzeptes derschlüsselfertigen Produktionslinien durchaus denkbar ist', erklärt Dr.Roth.Über die Roth & Rau AG:Die seit dem 11. Mai 2006 an der Frankfurter Wertpapierbörsenotierte Roth & Rau AG (ISIN DE000A0JCZ51) entwickelt und fertigt Anlagenund Prozesssysteme auf Basis der Plasma- und Ionenstrahltechnologie undliefert diese an einen weltweiten Kundenstamm aus den unterschiedlichstenBranchen. Im Geschäftsfeld Photovoltaik bietet Roth & Rau vor allemAntireflexbeschichtungsanlagen für kristalline Silizium-Solarzellen an. Miteinem weltweiten Marktanteil von rund einem Drittel ist Roth & Rau indiesem Bereich Marktführer. In dem zweiten Geschäftsfeld Plasma- undIonenstrahltechnologie, das im vergangenen Geschäftsjahr rund 30 % zumUmsatz beisteuerte, entwickelt das Unternehmen Anlagen für dieSemiconductor-, die Automobilindustrie sowie für Forschung und Entwicklungin verschiedenen Branchen.Kontakt:Haubrok Investor Relations GmbHSimone GornyKaistraße 1640221 DüsseldorfTel.: +49 (0) 211/30126-130Fax: +49 (0)211/30126-172E-Mail: s.gorny@haubrok.deDGAP 16.01.2007 --------------------------------------------------------------------------- Sprache: DeutschEmittent: Roth & Rau AG Gewerbering 3 OT Wüstenbrand 09337 Hohenstein-Ernstthal DeutschlandTelefon: 0372349880Fax: 03723 498825E-mail: silvia.roth@roth-rau.deWWW: www.roth-rau.deISIN: DE000A0JCZ51WKN: A0JCZ5Indizes: Börsen: Freiverkehr in Berlin-Bremen, Düsseldorf, München, Stuttgart; Entry Standard in Frankfurt Ende der Mitteilung DGAP News-Service ---------------------------------------------------------------------------